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光刻机，作为芯片制造的核心设备，一直是半导体产业的关键所在。2025年，随着全球半导体市场的持续增长，光刻机行业的发展历程、市场格局以及国内供应链厂商的崛起，成为行业内外关注的焦点。
光刻机的发展历程是一部技术创新的史诗。从20世纪六七十年代的接触式光刻机，到如今的步进扫描投影式光刻机，每一次技术迭代都推动了半导体制造的进步。接触式光刻机虽然分辨率较高，但存在掩模与光刻胶直接接触导致污染和损坏的问题。接近式光刻机的出现，通过在掩模和硅片之间留出微小间隙，减少了污染，但分辨率提升有限。直到投影光刻机的诞生，尤其是步进扫描投影式光刻机的出现，才真正解决了大曝光场与高分辨率之间的矛盾，成为当前主流机型。
数据显示，步进扫描投影光刻机自1990年首次推出以来，已经占据高端芯片制造的关键层。这种光刻机通过扫描实现更大的曝光场，降低了投影物镜的研发难度，同时提高了分辨率和产能。如今，最先进的EUV光刻机（7nm以下）也采用步进扫描投影曝光方式，支撑着集成电路向更小的制程迈进。
全球光刻机市场呈现出明显的寡头垄断格局。ASML、尼康（Nikon）和佳能（Canon）三家公司长期占据全球光刻机市场的主导地位。其中，ASML凭借其在高端光刻机领域的技术优势，占据了全球光刻机市场的82.1%，特别是在EUV光刻机领域，ASML是全球唯一的供应商。尼康和佳能则分别占据7.7%和10.2%的市场份额，主要集中在中低端光刻机领域。
2024年，全球光刻机市场规模预计达到315亿美元，同比增长19.1%。ASML的EUV和ArFi光刻机成为其主要收入来源，其中EUV机型贡献了39.39%的营收，ArFi机型占比45.76%。ASML在高端光刻机市场的垄断地位，使其在技术创新和市场份额上遥遥领先。
随着全球半导体市场的增长，特别是中国市场的崛起，国产光刻机的替代需求愈发迫切。2023年，中国光刻机产量仅为124台，而需求量高达727台，供需关系严重不匹配。在这样的背景下，国产光刻机厂商迎来了前所未有的发展机遇。
在美日荷加强对华先进制程出口限制的背景下，光刻机的国产替代势在必行。2023年，荷兰和日本相继宣布对先进半导体设备实施出口管制，这进一步凸显了国产光刻机的重要性。国产光刻机厂商在国家政策支持下，加速技术研发和市场拓展，逐步打破国外垄断。
上海微电子的90nm光刻机已实现量产，28nm浸没式光刻机的研发工作正在推进；国科精密的高端曝光光学系统、科益虹源的DUV光源、华卓精科的双工作台技术、福晶科技的晶体材料等，都在为国产光刻机的崛起贡献力量。这些企业的崛起，不仅提升了国产光刻机的技术水平，也为国内半导体产业的自主可控发展奠定了坚实基础。
