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在当今半导体产业的浪潮中，光刻机无疑是最为核心且关键的设备之一。其如同半导体制造皇冠上的明珠，其技术水平直接决定了芯片的制程精度与性能优劣，对于整个行业的发展起着至关重要的作用。随着科技的迅猛发展以及全球市场需求的不断增长，2024年的光刻机产业竞争格局愈发激烈，国产替代的空间也在逐步扩大，相关产业链上的公司也在这一浪潮中扮演着各自独特的角色。
荷兰ASML、日本Nikon和Canon犹如三座巍峨的山峰，稳稳占据着主导地位。其中，ASML无疑是高端光刻机市场当之无愧的王者，特别是在EUV（极紫外）光刻机这一尖端领域，其拥有着绝对的独家供应优势。
根据相关数据显示，2023年全球前三大光刻机厂商的销售业绩创下新高。从出货结构来看，中低端KRF和I – line光刻机出货数量较多，而像浸没式DUV光刻机和EUV光刻机的出货量相对较少，但高端机型的收入贡献却非常显著。以ASML为例，2022年单台EUV光刻机价格高达约1.8亿欧元，浸没式DUV光刻机也达到了约6500万欧元，EUV + ArFi光刻机的收入在ASML的设备总收入中占比超过80%。2024年，EUV光刻市场更是呈现出迅猛的增长态势，预计在2028年其市场规模将超过200亿美元。ASML凭借其技术领先地位，占据着全球光刻机市场约89%的份额，几乎垄断了高端市场。
在这样的竞争格局下，Nikon和Canon主要侧重于中低端市场，通过自身的技术优势和产品特点，在特定领域和产品线上占据一席之地。这种“一超两强”的市场格局短期内难以撼动，但也并非铁板一块。
国内光刻机行业整体仍处于起步阶段。上海微电子在国内市场占据领军地位。上海微电子的自研600系列光刻机已成功实现90nm工艺的量产，并且还在努力突破技术瓶颈，向着更高工艺节点的量产迈进。北京华卓精科、北京科益虹源等企业也在积极投身于光刻机设备的研发与生产工作，其中北京科益虹源在研发准分子激光器方面取得了进展，这为光刻机光源技术的发展提供了有力支持。
不过，国内光刻机行业与国际先进水平相比，依然存在着一定的差距。从市场依赖情况来看，中国大陆光刻机市场空间虽然巨大，但大量的高端机台依赖从荷兰ASML进口。2022年中国大陆IC用光刻机进口金额高达39.7亿美元，从荷兰和日本的进口金额分别为25.5亿美元和13.0亿美元。
国产替代的道路并非一帆风顺。“卡脖子”的难点主要集中在光源和镜片等关键技术领域。光刻机要求体系小、功率高而稳定的光源，以及一系列高精度和高光滑度的镜片来聚焦和校准光线，这些技术对于国内企业来说，仍然是需要攻克的难关。
